R2R 機械のレイアウト
RT-R2R ウェブアルミ真空金属化器の機能は,あらゆる産業ワークショップにとって理想的な選択となるさまざまな機能をサポートします.
まず,生産コストを削減するのに役立つ高い出力率を有し,また,高いバリアアプリケーションに最適である重厚な堆積層を持っています.フリースパンプロセスはドラムラインとエッジトリムの必要性を排除しますこれは,特にCPP,BOPP,LDPEのような低圧基板に適しています.
また,個々のワイヤフィードがあり,非常にユーザーフレンドリーです. 保守も簡単です. サーボモーター駆動付きのウェブハンドリングメカニズムは,任意のライン速度で精密な制御を提供します.最後に組み立てが簡単であるため,コンパクトな設計で地面積は最小限です.
マルチウェブコーターは以下の主要機能を提供します. | ||||||||
A. 1つの室は,様々な堆積源を収容するために多圧帯に分かれています. | ||||||||
B. 複数の層のコーティングのために,複数のソースの同時堆積能力を1つの網通路に搭載する. | ||||||||
C. 逆向きの網巻き方向は,真空を壊さずに無限の層を堆積させることができる. | ||||||||
D. 精密な網処理メカニズムとエッジガイドで,調整を失うことなく複数回通過を可能にします (オプション) | ||||||||
E. AC 逆向きのウェブドライブシステムで,複数のウェブ速度を正確に制御する. | ||||||||
F. 線形光学および/または抵抗厚さモニタリングシステム,精密な堆積厚みと均一性を制御する (オプション) | ||||||||
G. 室はSUS304Lステンレスで,低出ガスコンポーネントで,より深い真空を保証する. | ||||||||
H. トルボ分子ポンプと低温冷凍装置の組み合わせによる真空ポンプにより,水分や油汚染のない清潔な真空を供給する. | ||||||||
貯蔵フィルム | ||||||||
1材料:PET,PEN,PES,PI,PC,PA,TAC...フィルム | ||||||||
2基板の厚さ: 15~300μm | ||||||||
3堆積方法:SiO2 (二酸化炭素) の場合,AC反応性;ITO (金属と電導体) の場合,パルスDC | ||||||||
4オキシード導体 TCO: ITO,AZO,IZO... | ||||||||
5金属導体 アル,キュー,モ,アグ... | ||||||||
6光学フィルム:Ta2O5,Nb2O5,SiO2,TiO2... | ||||||||
7半導体 ZnO インガズノ... | ||||||||
8隔熱器: SiO2,SiNx,AlOx,AlNx... | ||||||||
9均一性: 網全体で ± 5% | ||||||||
一般仕様 | ||||||||
真空室体:単室多圧ゾーン | ||||||||
移動可能な車: Web Carriage | ||||||||
放出ゾーン: 2 × 噴射ゾーン (オプション: 3 噴射ゾーン) | ||||||||
発射源: 2 x ダブルカソード発射源 (オプション: 3 ダブルカソード発射源) | ||||||||
基板前処理:線形イオン源 | ||||||||
網の幅: 1300mm | ||||||||
巻き込み直径: Φ600mm 最大 | ||||||||
巻き込み方向:両方向 | ||||||||
基板厚さ: 15~300μm | ||||||||
Web ライン 速度:0.5~10M/min | ||||||||
網張力:5.0PLI 最大0.5PLI 最短 | ||||||||
Web アライナメント: ±3mm (1回通過) | ||||||||
ハイ真空ポンプ:ターボポンプ | ||||||||
粗末真空ポンプ: 乾燥ポンプと吹風器の組み合わせ | ||||||||
湿度ポンプ:ポリコールド・クライオジェニック | ||||||||
堆積厚さの制御:モニタリング (オプション) | ||||||||
a: 光学送信 b: エディ電流抵抗 | ||||||||
システム操作:PLCベースのコンピュータシステム操作 | ||||||||
バキューム・チャンバー | ||||||||
真空室は,SUS304L磨き型ステンレス製の水平箱として構成され,片端にフレンズ式開口がある.分割ゾーンの下部セクションは,アクセサリーとの堆積源を含む上部は網のキャリッジを収納する. | ||||||||
室内構造: フランジ付きの開口を持つ水平箱 | ||||||||
室構造:単室多圧ゾーン | ||||||||
カメラフレーム:SS41 軽鋼,塗装 | ||||||||
カメラ材料:SUS304L 磨き鋼 | ||||||||
圧力ゾーン分隔器: アルミプレート | ||||||||
ポート素材:ポリカーボネート | ||||||||
真空圧力ゾーン: 4 (1回転ゾーン,2回落ゾーン,1回緩衝ゾーン) |
R2R (Roll-to-Roll) ウェブ真空金属化プロセスは,金属の薄い層,通常はアルミを柔軟な基板に継続的なロール・トゥ・ロール方法で堆積することを含む.プロセス に 関する 主要 な ステップ は 次 の よう です:
1.基板の解き放たれ: このプロセスは,柔軟な基板材料のロールから始まり,それを巻き開き,金属化機械に供給します.
2.清掃 と 予備 処理: 材料は,金属コーティングの粘着性を影響する表面汚染物質を除去するために,清掃セクションを通過することができます.基板と金属層間の結合を強化するために,コロナ処理やプライマーの適用などの事前処理プロセスを受けることができる..
3.金属化室: R2Rウェブ真空金属化機器の核心は金属化室です.基質は高真空状態で維持される室に入ります.室は,通常,蒸発源やカソードからなる.積立する金属 (アルミなど) を含んでいる.
4.メタル蒸発:蒸発源内の金属は蒸発点まで加熱されます.金属が蒸発すると,室内に蒸気雲を形成します.蒸発した金属原子は直線で移動し,動く基板に凝縮します薄くて均質な金属層を形成する.
5.基板冷却: 金属化後,コーティングされた基板は冷却セクションを通過し,金属層が固まり安定します.
6.基板の巻き込み■ 最後に,金属化基板をロールに巻き込み,さらなる加工または様々な用途に使用します.
R2Rウェブ真空金属化プロセスの 具体的な詳細とパラメータは 必要な金属コーティング,基板材料,意図された用途特定の要求を満たすために,コーティング厚さ,粘着性,および均一性などの要因を制御するためにプロセスを最適化することができます.
R2R ウェブ真空金属化により,高い生産速度,コーティング厚さの正確な制御,優れた粘着性,および幅広い柔軟な基質を処理する能力などの利点があります,包装,電子機器,自動車などで広く使用されています
発射カソード分布
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