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| ブランド名: | ROYAL |
| モデル番号: | RTAS1250 |
| MOQ: | 1 セット |
| 価格: | 交渉可能 |
| 支払条件: | L/C、D ・ D ・ P T/T |
| 供給能力: | 毎月10セット |
樹脂、プラスター プロダクト/銀の装飾PVDの真空メッキ装置のAgのメタライゼーション/銀イオンめっき
RTAC-SPシリーズ真空メッキ システムはだれが高い生産性および総コーティングの解決を捜しているか利用できますのために製造します。
利点
強い設計、大きいバッチ、速い周期は、適用範囲が広いコーティング プロセス基本設計の概念ですVakiaのずっと真空メッキが追求している。
従来にぬれたeletroplatingと比較されて、PVDの銀イオンめっきプロセスはより明るく、より高い反射フィルムを発生させます。従って装飾および反射の企業のために広く利用されたそれ。基質はさまざまです:プラスチックは金属、陶磁器、ガラス、ステンレス鋼等を耕します。
減ることができる高度のコーティングの技術として80%まで生産費および最も重要の大きい表面の仕上げです。
| RTAC1250-SPの指定 | |||||||
| モデル | RTAC1250-SP | ||||||
| 技術 | 放出させるDCのマグネトロン+イオンめっき | ||||||
| 材料 | ステンレス鋼（S304） | ||||||
| 部屋のサイズ | Φ1250*H1250mm | ||||||
| 部屋のタイプ | シリンダー、垂直、1ドア | ||||||
| 放出させるシステム | 薄く黒いフィルムの沈殿のための専ら設計 | ||||||
| 沈殿材料 | アルミニウム、銀、銅、クロムのステンレス鋼、 ニッケル |
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| 沈殿源 | 円柱に放出させることが+ 8つを目標とする2つは陰極を操縦しました アークの源 |
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| ガス | MFC- 4の方法、ArのN2、O2、C2H2 | ||||||
| 制御 | PLC （プログラム可能な論理のコントローラー） + タッチ画面 |
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| ポンプ施設管理 | SV300B - 1セット（Leybold） | ||||||
| WAU1001 - 1つはセット（Leybold） | |||||||
| D60T- 2sets （Leybold） | |||||||
| ターボ分子ポンプ:2* F-400/3500 | |||||||
| 前処理 | バイアス電源:1*36 KW | ||||||
| 安全システム | オペレータを保護する多数の安全保護インターロック | ||||||
| 冷却 | 冷水 | ||||||
| 電気力 | 480V/3 phases/60HZ （迎合的な米国） | ||||||
| 460V/3 phases/50HZ （迎合的なアジア） | |||||||
| 380V/3 phases/50HZ （迎合的なEU-CE） | |||||||
| 足跡 | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| 総重量 | 7.0 T | ||||||
| 足跡 | （L*W*H） 5000*4000 *4000 MM | ||||||
| サイクル時間 | 30~40分（基質材料によって、 基質の幾何学および環境条件） |
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| 力MAX。 | 155のKW | ||||||
| 平均出力 消費（およそ） |
75のKW |
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より多くの指定のための私達に、高貴な技術総コーティングの解決を提供するために名誉を与えられます連絡して下さい。
