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| ブランド名: | ROYAL |
| モデル番号: | RTSP1000-IPG |
| MOQ: | 12 セット |
| 価格: | 交渉可能 |
| 支払条件: | L/C、D ・ D ・ P T/T |
| 供給能力: | 1 ヶ月あたりの 6 セット |
時計ケースMFスプッティングシステム/グラフィットPVD堆積真空コーティングプラント
時計ケース MF スプッターシステム一般的なグラフィット,ジェットブラック,青い色などに装飾のための統合された複数の堆積源マシンです. 金属部品,ステンレス鋼の物体.特に高級の贅沢品に使われています電子機器:スマートフォン,カメラ,ノートPC,ゴルフ,スプーン,フォーク,ナイフ,ドアハンドル,水槽;指輪,ネックレス,イヤリング,ブレスレットなど
時計ケース MF スプッターシステムには複数の堆積源があります
固体金属標的の蒸発のための方向性円弧源.
2対のMF未白化スプッターカソードで,グラフィット薄膜層を堆積する.
バイアス電源 離子爆撃用 プレトリートメントのためのプラズマ領域を形成する
"アノード線形イオン源装置" (オプション) PACVDおよびPECVD処理;
水分子凝縮のための冷却ポンプ (ポリコールド) (オプション)
MF スプッティングとは?
DCやRFのスプートリングと比較して,ミッド周波数スプートリングは,コーティングの大量生産のための主要な薄膜スプートリング技術になりました.特に,光学コーティングなどの表面に,電解膜や非導電膜コーティングをフィルムで堆積させるためソーラーパネル,多層,複合材料フィルムなど
これは,より速い堆積速度のためにMHzではなくkHzで動作しているため,RF噴射を代替しており,DCのような複合薄膜堆積中にターゲット中毒を回避することができます.
MFスプッターターゲットは 2組で常に存在しました Two cathodes are used with an AC current switched back and forth between them which cleans the target surface with each reversal to reduce the charge build up on dielectrics that leads to arcing which can spew droplets into the plasma and prevent uniform thin film growth--- which is what we called Target Poisoning.
MFスプッティングシステムの性能
1極限真空圧:5.0×10以上-6トール
2動作真空圧: 1.0×10-4トール
3ポンプダウン時間: 1 atm から 1.0×10-4熱度≤3分 (室温,乾燥,清潔,空室)
4金属化材料 (スプッター + 弧蒸発): Ni, Cu, Ag, Au, Ti, Zr, Cr, TiN, TiC, TiAlN, CrN, CrCなど
5動作モデル: 完全自動/半自動/手動
MFスプッターシステム構造
真空塗装機には,以下のリストのキーコンプリートシステムが含まれます.
1掃除室
2. 荒らした真空ポンプシステム (バックポンプパッケージ)
3高真空ポンプシステム (磁気懸垂分子ポンプ)
4電気制御と操作システム
5補助施設システム (サブシステム)
6. 堆積システム: MFスプッターカソード,MF電源,バイアス電源 オプションのためのイオン源
メタルグラフィットデコレーションMFスプッティングシステムのサイズ:
室内サイズ:直径1200mm~1600mm
室内高さ: 1250mm ~ 1300mm
3D製品のスペーカルの需要に基づいて,カスタマイズされた機械サイズも利用できます.
MFスプッティングシステム RTAC1250-SPMF 仕様
| モデル | RTAC1250-SPMF | ||||||
| テクノロジー | MF マグネトロンスプッター + イオン塗装 | ||||||
| 材料 | ステンレス鋼 (S304) | ||||||
| 部屋の大きさ | Φ1250*H1250mm | ||||||
| 部屋のタイプ | シリンダー,垂直,1ドア | ||||||
| 噴射システム | 薄黒いフィルムの堆積のための設計のみ | ||||||
| 申告資料 | アルミ,シルバー,銅,クロム,ステンレス鋼 ニッケル |
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| 預金源 | 2セット MF 円筒型スプッターターゲット + 8 誘導式カソド弧源 + イオン源 オプション | ||||||
| ガス | MFC- 4つの方法,Ar,N2,O2,C2H2 | ||||||
| コントロール | PLC (プログラム可能な論理コントローラー) + | ||||||
| パンプシステム | SV300B - 1セット (レイボルド) | ||||||
| WAU1001 - 1セット (レイボルド) | |||||||
| D60T-1セット (レイボルド) | |||||||
| ターボ分子ポンプ: 2* F-400/3500 | |||||||
| 治療前 | バイアス電源:1*36 KW | ||||||
| 安全システム | 操作者を保護するための多くの安全鍵 | ||||||
| 冷却する | 冷たい水 | ||||||
| 電力 | 480V/3フェーズ/60HZ (米国対応) | ||||||
| 460V/3相/50HZ (アジア対応) | |||||||
| 380V/3フェーズ/50HZ (EU-CE対応) | |||||||
| 足跡 | L3000*W3000*H2000mm | ||||||
| 総重量 | 7.0 T | ||||||
| 足跡 | (L*W*H) 5000*4000*4000MM | ||||||
| サイクルの時間 | 30~40分 (基板材料によって, 基板の幾何学と環境条件) |
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| パワーマックス | 155 KW | ||||||
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平均電源 |
75 KW |
ロイヤル・テクノロジーは 完全なコーティング・ソリューションを 提供できることを光栄に思います
