銅のマグネトロンの放出させるコータ/高真空のマグネトロンの放出させる沈殿システム

銅/アルミニウム/カーボン放出させる装置、高真空のマグネトロンの放出させる沈殿システム

UHVの放出させる沈殿システムはPVDの沈殿源として放出させる陰極を使用します。それはMFを放出させます常にcomibled、DCはindstrial PVDのコーティングの塗布のために放出させます。異なったターゲットおよび放出させる沈殿速度の要求に基づいて、高貴な技術はcylidrical放出させます提供し、平面速い溶着速度のための陰極を、主に工業生産のコーティングの要求を満たすために放出させて下さい。 

私達の高真空のマグネトロンの放出させる沈殿システムは銅、alumunium、プラスチック、金属のサーキット ボードの伝導性のフィルムの層のめっきのために設計されています。それは基質のナノの薄膜を凝縮できます。放出させるAgを除いてそれはまたNIのAu、AgのAl、Cr、ステンレス鋼ターゲットを沈殿できます。

それはdepositeのさまざまな基質の高い均等性のフィルムできます:プラスチックpanle、PCのpanle、アルミニウム シート、陶磁器シート、AlN陶磁器のAl2O3ケイ素は等を広げます。 

RTSP1215放出させるコーティング装置のレイアウト

RTSPシリーズ放出させるコーティング装置の塗布:

1. の基質で利用できる:プラスチック、ポリマーの、ガラスおよび陶磁器シート、ステンレス鋼、銅シート、アルミニウム板等。

2. ナノのフィルムを発生させるためには好んで下さい:錫、TiC、TiCN、Cr、CrC、CrN、CU、Ag、Au、NI、Al等。

RT-SPシリーズ放出させるコーティング装置の設計特微:

1. 限られた部屋スペースのためによい強い設計

2. 維持および修理のための容易なアクセス

3. 高い収穫のための速いポンプ施設管理

4. セリウムの標準的な電気エンクロージャ、ULの標準はまた利用できます。

5. 正確な製作の技量

6. 良質のフィルムの生産を保証する安定したランニング。

イオン源はGencoaの会社、特性から元です:

1. 標準的な放出させる圧力で視準を正された血しょうビームを作り出す最大限に活用された磁場

2. 一定した流れ及び電圧–複数のガスの自動車制御--を維持するガスのための自動化された規則

3. 基質を汚染から保護し、長命の部品を提供するグラファイトの陽極および陰極

4. すべてのイオン源のRFの標準的な電気絶縁材

5. 陽極および陰極–部品の速い切換えの間接冷却

6. 低電圧操作に多数磁気トラップを提供する陰極の部品の容易な切換えか集中されたビーム

7. 電圧は同じ流れをいつも維持するためにガスの調節のフィードバックを用いる電源を調整しました

高真空のマグネトロンの放出させる沈殿システム技術仕様:

銅/アルミニウム/カーボン放出させる装置の主要部分:

1. 強いポンプ施設管理:Leyboldの裏付けポンプ+大阪磁気懸濁液の分子ポンプ

2. 水/ガスのキャビネットの配分組織 

3. 放出させる陰極の配分組織

より多くの指定のための私達に、高貴な技術総コーティングの解決を提供するために名誉を与えられます連絡して下さい。