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DLC-C Taカーボン タンタルの放出させる沈殿システム

マグネトロンの放出させるコータ
2025-02-11
329 意見
今からお話し
#magnetron sputtering machine #vacuum deposition equipment #magnetron sputtering equipment
マグネトロンスプッタリングは,タンタル,チタン,ウルフスタンなどの耐火性金属を堆積するために広く使用されています,ナイオビウム,非常に高温の堆積を必要とする金や銀は,溶融点が低い銅,アルミニウム,ニッケル,クロムなどの金属の堆積にも使用されます. タンタルは電子機器で最もよく使用されています産業侵食に強いため,保護用コーティングとして使います. スプッターされたタンタル薄膜の用途:1フィルムが反応... もっと眺め
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DLC-C Taカーボン タンタルの放出させる沈殿システム
DLC-C Taカーボン タンタルの放出させる沈殿システム
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