携帯電話のフィルムのメタライゼーションPVD EMIのshiledingコーティングを保護する付属品EMIに電話をかけて下さい
PVDのコーティングはいかに働きますか。
固体高真空の環境で蒸発しか、またはイオン化し、そして電気で伝導性材料で純粋な金属または金属の合金のフィルムとして溶着します。反応ガスは、窒素のような金属蒸気に、酸素か炭化水素ベースのガスもたらされるとき、窒化物、酸化物を作成します、または金属蒸気として炭化物のコーティングはガスと流れましたり、化学的に反応します。PVDのコーティングは専門にされた反作用の部屋で蒸発させた材料が他では部屋にあるあらゆる汚染物と反応しないようにされなければなりません。
PVDのコーティングのプロセス中に、プロセス パラメータは生じるフィルムの硬度、付着、化学抵抗、フィルムの構造および他の特性が動くそれぞれのために反復可能であるように厳密に監視され、制御されます。さまざまなPVDのコーティングが耐久性を高め、摩擦を減らし、出現を改善し、他の性能の強化を達成するのに使用されています。
チタニウムのような高い純度材料を、クロム沈殿させるためには、かジルコニウム、銀、金、アルミニウム、銅、ステンレス鋼は、PVDのコーティングの物理的なプロセス複数の異なったPVDのコーティング方法の1つを利用しま、下記のものを含んでいます:
アークの蒸発
熱蒸発
放出させるDC/MF (イオンの衝突)
イオン ビームの沈殿
イオンめっき
高められた放出させること
これらの方法のそれぞれは「物理的な蒸気沈殿」のアーチ状に掛ける部門で属します。
真空のコーターを保護するEMI:
PVD EMIのshiledingコーティングの利点:
1) プロセスは環境に優しいです
2)所有者のための低い投資そして高い元金回収;
3)大量の生産、速い周期、安価;
4)独特な設計は友好的な操作および低い維持です。
PVDのコーティングは何ですか。
PVDのコーティング、か物理的な蒸気沈殿コーティングは、いろいろな真空メッキ方法を定義します。これらのコーティングの技術が防護壁、装飾的な色、または他のいろいろな機能利点を要求する目的に非常に薄膜を加えるのに使用されています。材料が真空槽、基質への部屋を渡る原子による運ばれた原子で蒸発し、基質の表面のフィルムに凝縮するのはtypeofのvavuumの沈殿プロセスです。
フィルムのコーティングの特性を保護するEMI
フィルム厚さ:1.5 | 3ミクロンは条件によって決まります。
フィルムの抵抗:(オーム) 0.5Ωよりよい
付着:3M810テープ> 5B
PVD EMIのshiledingコーティングの指定
モデル | RTEP1616-SP | ||||||
技術 |
熱蒸発、タングステン、フィラメント、グロー放電、マグネトロン 放出させること |
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材料 | ステンレス鋼(S304) | ||||||
部屋のサイズ | Φ1600*1600mm (h) | ||||||
部屋のタイプ | シリンダー、垂直、2ドア | ||||||
EVAPORTATIONシステム | EMIのメタライゼーションのための排他的な設計 | ||||||
沈殿材料 | 銀、銅、ステンレス鋼、ニッケル | ||||||
沈殿源 | タングステン フィラメント+ DCの放出させる陰極 | ||||||
制御 | PLC (プログラム可能な論理のコントローラー) +タッチ画面 | ||||||
ポンプ施設管理 | 回転式Pistonrの真空ポンプ | ||||||
回転式ベーンの真空ポンプ | |||||||
ルーツ真空ポンプ | |||||||
Diffussionポンプ+小川Polycold | |||||||
前処理 | 血しょうクリーニング | ||||||
安全システム | オペレータおよび装置を保護する多数の安全保護インターロック | ||||||
冷却 | 冷水 | ||||||
電気力 | 480V/3 phases/60HZ (迎合的な米国) | ||||||
460V/3 phases/50HZ (迎合的なアジア) | |||||||
380V/3 phases/50HZ (迎合的なEU-CE) | |||||||
足跡 | L9000*W4200*H3000mm | ||||||
総重量 | 10.5 T | ||||||
サイクル時間 |
20分(基質材料、基質の幾何学によって 環境条件) |
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力MAX。 | 80KW | ||||||
平均出力の消費(およそ) | 45KW |
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