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| ブランド名: | ROYAL |
| モデル番号: | RTSP1200 |
| MOQ: | 1 セット |
| 価格: | 交渉可能 |
| 支払条件: | L/C、D/A、D/P、T/T |
| 供給能力: | 1 ヶ月あたりの 6 セット |
機械モデル:RT1200-FCEV
PECVD + PVD マグネットロンスプッターによる技術: Si, Cr,グラフィット標的を堆積し,高密度の不均衡閉磁場を生成する.高均質性と優れた耐腐蝕性のある炭素製フィルム.
これはNT1200-FCEV高真空マグネトロン発射堆積システムとは 上海大学のために作ったMulti950研究開発モデルを 参照する 仕組のモデルです
Octal室で設計され,柔軟で信頼性の高い性能は,様々なアプリケーションで広く使用されています.グラフィット,Al,Cr,Cu,Au,Ag,Ni,Sn,SSなど多くの非鉄磁性金属;さらにイオン源単位
プラズマエッチング性能とPECVDプロセスにより,炭素基層を堆積させるため,異なる基板材料に対するフィルム粘着性を効率的に向上させる.
装置の構造:
垂直向き,八角構造, 2つのドアが開く (前と後ろ) 容易なアクセス
設備の特徴:
環境に優しいシステム,有害廃棄物なし
高度な統合,モジュール式設計
産業用大量生産のための商業化および標準化
強い粘着と高いイオン化のために非常に効率的なイオン源
操作が簡単:タッチスクリーン + PLC制御, 1 つのタッチ操作
ロイヤル・テクノロジーのソフトウェアで プロセスパラメータをプログラムし,保存し,再現できます
高度に均質な堆積のためのカルーセルシステムの特殊設計
生産性も安定性も高く 週7日24時間働いています
柔軟性があり,単面または双面のコーティング用で,様々なサイズのプレートに対応する
PVDとPECVDコーティングフィルムの性能:
表面の伝導性を改善するために
高耐腐食性
高耐磨性
高硬さ
水害性組成フィルム及びその他の機能性フィルム
複合コーティング用:金属フィルムと非金属フィルム
フィルム厚さは100nmから12μm,厚さ容量 ±5% 強い粘着性
低耐熱部品の表面硬化処理
| モデル | NT1200-FCEV | |||||||||
| 材料 | ステンレス鋼 (S304) | |||||||||
| 部屋の大きさ | Φ1250*1350mm (H) | |||||||||
| 部屋のタイプ | 前と後ろの2ドア構造,垂直 | |||||||||
| 単一のポンプパッケージ | 回転ピストン真空ポンプ | |||||||||
| 根の真空ポンプ | ||||||||||
| 磁気懸垂分子ポンプ | ||||||||||
| ローータリーバーンポンプ (保持ポンプ) | ||||||||||
| テクノロジー | マグネトロンスプッター,イオン源PECVD | |||||||||
| 電力供給 | 噴射電源 + バイアス電源 + イオン源 | |||||||||
| 預金源 | 2ペアDC/RFスプッティングカソード+ (2ペアスペア使用) +イオンソース | |||||||||
| コントロール | PLC+タッチスクリーン | |||||||||
| ガス | ガス質量流量計 (Ar,N2,C2H2,O2) アルゴン,窒素,エチン,酸素 | |||||||||
| 安全システム | 操作者と機器を保護するための多数の安全鍵 | |||||||||
| 冷却する | 冷却水 | |||||||||
| 清掃 | 発光放出/イオン源 | |||||||||
| パワーマックス | 150KW | |||||||||
| 平均的な電力消費量 | 75KW | |||||||||
ロイヤル・テクノロジーは 完全なコーティング・ソリューションを 提供できることを光栄に思います
