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| ブランド名: | ROYAL |
| モデル番号: | RTRS |
| MOQ: | 1 セット |
| 価格: | 交渉可能 |
| 支払条件: | L / C、T / T |
| 供給能力: | 1 ヶ月あたりの 6 セット |
RTASシリーズは金属部分、ステンレス鋼の目的の一般的なグラファイト、漆黒、青く、銅および青銅色色へ統合された多数の沈殿ソース マシンである。上限のクラスの贅沢な部品のために特に使用されて。
標準アプリケーション
宝石類、時計バンドおよびボディの器械を書くステンレス鋼のスポーツ
家電:携帯電話、ラップトップ、カメラ、無人機
円アークおよびシリンダー放出させる沈殿源が装備されているRTAS機械。、MFの等放出させること放出させる、DCの多数の組合せアークの蒸発およびイオン源。すべては構成の高い柔軟性のために1台の単一機械で利用できる、さまざまな適用を満たす。特に小さい部品の審美的なコーティングのために:漆黒、銅、黄銅およびクロム色。
MFは何を放出させているか。
放出させるDCおよびRFと比較されて放出させる中間周波数は光学コーティング、太陽電池パネル、多数の層、複合材料のフィルム等のような表面の誘電性および非導電フィルムのコーティングのフィルムの沈殿のためのコーティングの大量生産のための主要な薄膜の放出させる技術に、特になった。
それは大いにより速い溶着速度のためのMHzよりもむしろkHzとそれによるRFの放出を作動し、またDCのような混合物の薄膜の沈殿の間にことができるターゲット中毒を避ける取り替えている。
MFの放出させるターゲットは2セットと常にあった。2つの陰極はそのの間で血しょうにしぶきを吹き出し、私達がTarget Poisoningと呼んだことである均一薄膜の成長を防ぐことができるアークに充満をこと鉛減らすように各逆転と誘電体で造り上げるためにターゲット表面をきれいにするAC流れとあちこちに転換した使用される。
技術的なSpecificaitons
| いいえ。 | 名前 |
| 1 | 真空のポンプ施設管理:ターボ分子ポンプ+根Pump+の機械ポンプ+ポンプを握る |
| 2 | 真空の測定システム:Pirani +ゲージをペンで書く |
| 3 | 暖房装置:付着を改善するために熱する基質のためのヒーター |
| 4 | 水/圧縮空気の配分組織:モジュール設計およびfabaricated |
| 5 | シリンダー放出させる陰極:2/4/6/8組の選択のための双生児ターゲット |
| 6 | 真空のゲート弁（選択として） |
| 7 | 電気エンクロージャ（セリウムの標準） |
| 8 | 真空槽（要求されるSS304/316L） |
| 9 | 陰極アークの源（慣習的なアークの陰極） |
| 10 | 眺めの港（沈殿部屋の点検のためのドアで中配られる2） |
| 11 | 処理するガスの配分組織（4つのチャネルのための規制流れのコントローラー）を |
| 12 | 棚のドライブ（惑星の運転モデル） |
| 13 | コンベヤー |
| 記述 | RTAS1250 | RTAS1612 |
| 沈殿部屋（mm） | φ1250 * H1250 | φ1600 * H1250 |
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惑星の運転 有効なコーティング区域（mm） |
8:φ270*H850 10:φ230*H850 |
10:φ300*H850 16:φ200*H850 |
| 円アークの陰極（セット） | 7 | 12 |
| シリンダー放出させる陰極（組） | 3 /4 | 4 / 6 |
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脈打ったバイアス力 （KW） |
36 | 48 |
| DC/MFの放出させる力（KW） | 36 | 4*36 |
| アーク力（KW） | 7*5 | 12*5 |
| 真空ポンプ |
2*ターボの分子ポンプ 1*SV300B 1*WAU1001 1*TRP60 |
3*ターボの分子ポンプ 2*SV300B 1*WAU2001 1*TRP90 |
| 最高。パワー消費量（KW） | 200 | 245 |
| 平均出力の消費（KW） | <75> | <100> |
| 操作スペース（L*W*H） mm | 4300*3700*2800 | 5000*4000*2800 |
柔軟な設定:機械はコーティング プロセスおよび顧客の要求に従って置かれる
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