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商品の詳細

Created with Pixso. Created with Pixso. 製品 Created with Pixso.
PVDとPECVDのDLCコーティングシステム
Created with Pixso.

PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング

PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング

ブランド名: ROYAL
モデル番号: Multi950
MOQ: 1セット
価格: 交渉可能
支払条件: L/C、T/T
供給能力: 1 ヶ月あたりの 26 セット
詳細情報
起源の場所:
中国製
証明:
CE
部屋:
垂直方向、2 ドア
沈殿源:
バランス/アンバランス クローズド 磁場フィールド
テクニック:
PECVD、バランス型/アンバランス型 Magentron スパッタリング カソード
申請:
自動車、半導体、SiCコーティング、DLC成膜、
フィルムの特徴:
耐摩耗性、強密着性、加飾塗装色
工場の所在地:
上海都市、中国
世界的なサービス:
ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
訓練サービス:
機械動作、維持、コーティング プロセス調理法、プログラム
保証:
限定保証機械の自由な、一生の1年
OEM&ODM:
利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
パッケージの詳細:
標準を、長距離の海洋/空気および内陸の交通機関のための新たな問題/カートン、適したで詰められるために輸出して下さい。
供給の能力:
1 ヶ月あたりの 26 セット
ハイライト:

vacuum coating plant

,

high vacuum coating machine

製品説明

ロイヤル・テクノロジー・マルチ950
PVD + PECVD 真空堆積機

Multi950機械は,研究開発のための多機能の真空堆積システムです.

チェン教授が率いる上海大学チームとの 激しい交流の後 最終的に設計と構成を 確認し,研究開発アプリケーションを 実現しましたこのシステムは,透明なDLCフィルムをPECVDプロセスで保存することができます.この実験機械設計コンセプトに基づいて,その後3つの他のコーティングシステムを開発しました.

1燃料電池用電気自動車のための二極板のコーティング- FCEV1213

2セラミック 直接塗装銅-DPC1215

3柔軟なスプッティングシステム-銅PCBゴールドプレートシステム

これらの3つの機械は,それぞれオクタゴナル・チャームがあり,様々なアプリケーションで柔軟かつ信頼性の高いパフォーマンスを可能にします.これは,コーティングプロセスを満足させ,さまざまな金属層を必要とします.,Cr,Cu,Au,Ag,Ni,Sn,SSなど多くの非鉄磁性金属ですプラズマエッチング性能により,異なる基板材料に対するフィルムの粘着性を効率的に向上させ,炭素基層を堆積するPECVDプロセスです

マルチ950は ロイヤル・テクノロジーの 先進的な設計のコーティングシステムの里程碑です上海大学の学生や 創意的で無私な献身で 指導してくれた 教授に感謝します彼の貴重な情報を 最先端の機械に 変えることができました

チェン教授と 協力したプロジェクトがありました
C-60材料の堆積は,誘導熱蒸発法によるもの.
イムオウ・ヤン氏と チェン教授は これらの革新的なプロジェクトにとって 根本的な役割を果たしました

PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング 0

技術 的 利点

  • コンパクトな足跡
  • 標準モジュール設計
  • 柔軟性
  • 信頼性
  • 八角室構造
  • 簡単にアクセスするための2ドア構造
  • PVD + PECVD プロセス

デザイン の 特徴

1柔軟性:アーチとスプッティングカソード,イオン源のマウントフレンジは柔軟な交換のために標準化されています

2汎用性:様々な不金属と合金,光学コーティング,硬コーティング,柔らかいコーティング,複合フィルムと固体潤滑フィルム,金属および非金属材料の基板

3ストレート・フォワード・デザイン: 2ドア構造,前と後ろの開口が容易なメンテナンスのため

PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング 1

テクニカル仕様

モデル:マルチ-950

堆積室 (mm)

直径 × 高さ: φ950 × 1350

堆積源: 1 組のMFスプッターカソード

1対のPECVD

8組のアーチカソード

1セット 線形イオン源

プラズマ均一性ゾーン (mm): φ650 x H750

カロセル: 6 xφ300

パワー (KW) バイアス: 1 x 36

MF スプッターパワー (KW): 1 x 36

PECVD (KW): 1 × 36

弧 (KW): 8 × 5

イオン源 (KW): 1 x 5

ガス制御システム MFC: 4 + 1

暖房システム: 18KW,最大500°C,熱カップルPID制御

高真空ゲートバルブ: 2

ターボ分子ポンプ: 2 x 2000L/S

根ポンプ: 1 x 300L/S

ローータリーバネスポンプ: 1 x 90 m3/h + 1 x 48 m3/h

足跡 (L x W x H) mm: 3000 * 4000 * 3200

総電源 (KW): 150

レイアウト

PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング 2 PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング 3
 
インサイト

建設時期:2015年

場所:中国上海大学

 
PVD+PECVDの真空沈殿システム、PECVDプロセスによるDLCのフィルムのコーティング 4