PVDプロセスについての概説
PVDプロセスは源から蒸発する材料が真空による蒸気か凝縮する、基質への低圧の気体か血しょう環境の形で運ばれる原子論の沈殿プロセスです。PVDプロセスが要素および分子とまた混合物のフィルムを沈殿させるのに使用することができます
包囲されたガスの環境が付いている沈殿材料の反作用による材料。（例えば、錫）または共同と
沈殿材料（例えばTiC）。通常、PVDプロセスが少数のナノメーターに何千ナノメーターの範囲で厚さのフィルムを沈殿させるのに使用されています;但し多層コーティングの等級別に構成の沈殿物、非常に厚い沈殿物および支えがない構造を形作るのに、それらが使用することができます。
高貴な技術は環境に優しいコーティングの解決の前進を用いる私達の生活水準を改善することを向けます。
PVDプロセスについての概説
PVDプロセスは源から蒸発する材料が真空による蒸気か凝縮する、基質への低圧の気体か血しょう環境の形で運ばれる原子論の沈殿プロセスです。PVDプロセスが要素および分子とまた混合物のフィルムを沈殿させるのに使用することができます
包囲されたガスの環境が付いている沈殿材料の反作用による材料。（例えば、錫）または共同と
沈殿材料（例えばTiC）。通常、PVDプロセスが少数のナノメーターに何千ナノメーターの範囲で厚さのフィルムを沈殿させるのに使用されています;但し多層コーティングの等級別に構成の沈殿物、非常に厚い沈殿物および支えがない構造を形作るのに、それらが使用することができます。
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