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真空アークのめっきについて、アークの蒸発のコーティング

December 11, 2017

最新の会社ニュース 真空アークのめっきについて、アークの蒸発のコーティング

イオンめっきについて

概説

 

1. めっきで沈殿のフィルムの並行か周期的で精力的な粒子の衝突沈殿のフィルムの構成そして特性を変更し、制御するのに利用します。

2. 沈殿材料は蒸発か、アークの蒸発放出させるか、または他の蒸発の源によって蒸発するかもしれません。

3. 衝突に使用する精力的な粒子は通常沈殿材料(フィルム イオン)の不活性か反応ガス、またはイオンのイオンです。

4. イオンめっきは衝突のためのイオンが血しょうから得られる血しょう環境ですることができます

 

イオンめっきの利点

 

1. 重要なエネルギーは精力的な粒子の衝突によって沈殿のフィルムの表面にもたらされます。

2. 表面の適用範囲は真空の蒸発におよび「放出させる再沈殿」効果改善され、分散するガスによる沈殿を放出させることができます。

3. 管理された衝突が付着、密度、残りのフィルムの圧力、光学的性質のようなフィルムの特性を変更するのに使用することができます。

4. フィルムの特性はとより沈殿を放出させ、ガスの分散、「sputtering/re沈殿」、および「原子金槌で打つ」効果による蒸発に掃除機をかけなさい沈殿材料の変化の「角度の発生」により少なく依存しています。

5. 「衝突高められた化学反応」によって衝突がおよび成長する表面からの未反応種の放出させること改良するのにフィルム材料の化学成分を使用することができます。

6. 血しょうが反応種を「使用することができるある適用で活動化させ」、反応沈殿プロセス(反応イオンめっき)を援助するためもっと容易に吸収される新しい化学種を作成して下さい

 

イオンめっきの不利な点

 

1. 制御するべき多くのプロセス変数があります。

2. 頻繁に表面上のフィルム特性の変化をもたらす基質の表面上の均一イオン衝突を得ることは困難です。

3. 基質の暖房は余分である場合もあります。

4. 状況によっては衝撃のガスは成長するフィルムに組み込まれるかもしれません。

5. 状況によっては余分な残りの圧縮フィルムの圧力は衝突によって発生するかもしれません。

6. イオンめっきが混合材料の堅いコーティング、高密度の付着性の金属コーティング、光学コーティング、および複雑な表面の等角のコーティングを沈殿させるのに使用されています。

7. 影響コーティングの表面かもしれたしぶき。

 

 

 

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