X線シンチレータ(CsI) 高真空蒸着装置 CsI イメージングコーティングの超高空間分解能
CsI 高真空蒸着システムは、超高真空環境でのシンチレーション スクリーンへの CsI メタライゼーション専用に設計されています。
厚み200~600μmのCsIシンチレータは厚み均一性と輝度性能に優れています。
ヨウ化セシウム (CsI ) 堆積特性:
イメージングの超高空間解像度;
よりシャープなイメージングのための高速応答。
エッジからエッジまでの画像領域を分類します。
光吸収層または反射層。
患者の X 線量が少ない。
応用: セキュリティ チェックと検査、高エネルギー物理教育、核放射線検出、医用画像処理用: 胸部検査、マンモグラフィー、歯科口腔内およびパノラマ。
適用される基板:TFTガラス、光ファイバープレート、アモルファスカーボンプレート、アルミプレート
機器の特徴:
信頼性:
24 時間年中無休の運用。
Inficon Film Thickness Controller により、膜厚をインラインで監視できます。
温度制御精度:±1℃、多段設定、自動温度データ記録・制御
高精度・高安定性を実現するサーボモーター搭載のロータリーラックです。
安全性:
高真空ポンプ: 危険物質が空気中に露出するのを避けるための窒素ガス吹き込み装置を備えた磁気サスペンション分子ポンプ。
すべての電極には安全保護スリーブが装備されています。
再現性と再現性:
高精度なパラメータ制御システムにより、
自動化されたプロセス制御ソフトウェアとプログラム、
ユーザーフレンドリーな操作。
効率:
CsI-950A+モデルは、第1世代のCsI-950モデルをベースに2回転ラック構造を採用。
最大2倍の容量。サイズ基板:500×400mm。
技術仕様
説明 | CsI-950 |
CsI-950A+
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堆積室 (mm)
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φ950×H1350 |
φ950×H1350
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ロータリーラックの積載 | 1 | 2 |
蒸発源 | 2 |
2
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加熱方法 |
ヨウ素タングステンランプ 最大。800℃ |
ヨウ素タングステンランプ 最大。800℃ |
到達真空圧(Pa) | 8.0×10-5Pa | 8.0×10-5Pa |
磁気浮遊分子ポンプ | 1×3400L/S |
1×3400L/S
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ルーツポンプ | 1×490m³/時 |
1×490m³/時
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ロータリーベーンポンプ | 1×300m³/時 |
1×300m³/時
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成膜コントローラー | クォーツコントロール×1 |
クォーツコントロール×1
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消費電力 (KW) |
最大。約。62 平均約。32 |
最大。約。65 平均約。35 |
詳細な仕様については、お問い合わせください。Royal Technology は、トータル コーティング ソリューションを提供できることを光栄に思います。
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