放出させるマグネトロンは広く利用されている沈殿のまさに高温を要求する、および貴金属タンタル、チタニウム、タングステン、ニオブのような処理し難い溶着させるために:クロム等か、金および銀はまた銅、アルミニウム、ニッケルのようなより低い融点の金属の沈殿のためにおよびどれ使用される。
タンタルは腐食へのよい抵抗のために保護層としてエレクトロニクス産業で最も使用される。
Sputteredタンタルの薄膜の適用:
1.フィルムが敏感に放出させることができるおよびこうして抵抗の抵抗および温度係数は制御することができると同時にマイクロエレクトロニクスの企業;
技術的な利点
高貴な技術の標準化されたタンタルの放出させる沈殿システム:RTSP1000
主要な構成 | |
モデル | RTSP1000 |
技術 |
脈打ったDCのマグネトロンの放出させること 陰極アークのめっき(選択のために、プロセスのコーティングによって定められる) |
部屋材料 | ステンレス鋼(S304) |
部屋のサイズ | Φ1000*1600mm (h) |
部屋のタイプ | Dの形、円柱部屋 |
回転棚及びジグ システム | 衛星運転するか、または中央ドライブ |
電源 |
DCの放出させる電源:2~4セット イオン源:1セット |
沈殿材料 | Ta、Ti/Cr/TiAl、Au、Ag、CU等。 |
沈殿源 | 平面の放出させる陰極+円アークの陰極 |
制御 | PLC (プログラム可能な論理のコントローラー) + IPC (manual+ auto+の半自動オペレーション・モデル) |
ポンプ施設管理 | 回転式ベーン・ポンプ:SV300B – 1セット(Leybold) |
根はポンプでくむ:WAU1001 – 1セット(Leybold) | |
ポンプの把握:D60C – 1セット(Leybold) | |
磁気懸濁液の分子ポンプ: MAG2200 – sest 2 (Leybold) |
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マス フローのコントローラーにガスを供給しなさい | 2つのチャネル:ArおよびN2 |
真空ゲージ | InficonかLeybold |
安全システム | オペレータおよびequipmenを保護する多数の安全保護インターロック |
暖房 | ヒーター:20KW.最高。臨時雇用者。:450℃ |
冷却 | 産業スリラー(冷水) |
力MAX。 | 100KW (およそ) |
平均出力の消費 | 45のKW (およそ) |
総重量 | T (およそ) |
フィートの印刷物 | (L*W*H) 4000*4000 *3600 MM |
電力 |
AC 380V/3 phases/50HZ/5ライン |
Insite:
造られた時間:2018年
位置:中国
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