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機械を金属で処理する有効で革新的な習慣PVD機械CsIの高真空

1セット
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negotiable
価格
機械を金属で処理する有効で革新的な習慣PVD機械CsIの高真空
特徴 ギャラリー 製品の説明 見積依頼
特徴
仕様
名前: 機械を金属で処理するCsIの真空
蒸発の源: モリブデンのるつぼ
沈殿材料: CS Iの真空沈殿
適用: 医学のX線スクリーン、歯科イメージ投射、保証点検、高エネルギー物理学
モデル: RTCsI950
工場位置: 上海都市、中国
工場位置: 上海都市、中国
工場位置: 上海都市、中国
工場位置: 上海都市、中国
世界的なサービス: ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
訓練サービス: 機械動作、維持、コーティング プロセス調理法、プログラム
保証: 限定保証機械の自由な、一生の1年
OEM及びODM: 利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
OEM及びODM: 利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
ハイライト:

vacuum metallizing machine

,

copper plating machine

基本情報
起源の場所: 中国製
ブランド名: ROYAL
証明: CE
モデル番号: RTCsI950
お支払配送条件
パッケージの詳細: 標準を、長距離の海洋/空気および内陸の交通機関のための新たな問題/カートン、適したで詰められるために輸出して下さい。
受渡し時間: 12週
支払条件: L/C、T/T
供給の能力: 1ヶ月あたりの10セット
製品の説明

X線のScintillator (CsI)の沈殿システム、機械を金属で処理するCsIの高真空

 

CsIの高真空の沈殿システムは非常に高真空の環境のシンチレーション スクリーンのCsIのメタライゼーションのために専ら設計されている。CsIのscintillators厚さおよび明るさの性能の高い均等性の厚さの範囲の200~600µm。

 

セシウムのヨウ素化合物(CsI)の沈殿性格描写:


イメージ投射の超高い空間分解能;
より鋭いイメージ投射のための速い応答;
クラスの一流の端に端のイメージ区域;
光学層か反射器の層を吸収しなさい;
低く忍耐強いX線の線量;

 

適用:保安検査のためおよび点検、高エネルギー物理学の教育、核radiatonの検出および医用画像処理:箱の検査、mamography、歯科内側の口頭およびパノラマ式。


応用基質:TFTガラス、繊維光学の版、無定形カーボン版、アルミニウム版

 

モデルCsI950A+は第1生成CsI950の高度の特性に基づいて更新される:

 

1. 効率:
CsI-950A+モデルは生成- 1つのCsI-950モデルに基づいて2回転式棚構造とある。
最高のための二重容量。サイズの基質:500 x400mm。

 

2.反復性及び再現性:
高い明確にされたパラメータ制御 システムを通して、
自動化されたプロセス制御 ソフトウェアおよびプログラム、
ユーザー フレンドリー操作。

 

3.信頼性:
24/7の幾日ノンストップ操作;
フィルム厚さをインラインに監視するInficonのフィルム厚さのコントローラー。
温度調整の正確さ:±1 ℃、多段式設定、自動温度のデータ記録および制御
高精度および安定性のためのサーボモーターが装備されている回転式棚。

 

4.安全:

高真空ポンプ:危険材料を空気で避ける窒素のガスの吹く装置が付いている磁気懸濁液の分子ポンプは、露出される;
すべての電極は安全保護袖が装備されている。

 

 

 

技術的な変数

 

記述 CsI-950

CsI-950A+

 

沈殿部屋(mm)

 

φ950 X H1350

φ950 X H1350

 

負荷の回転式棚 1 2
蒸発の源 2

2

 

加熱法

ヨウ素 タングステン ランプ

最高。800℃

ヨウ素 タングステン ランプ

最高。800℃

Ultimatedの真空圧力(Pa) 8.0×10-5Pa 8.0×10-5Pa
磁気懸濁液の分子ポンプ 1つのx 3400L/S

1つのx 3400L/S

 

根はポンプでくむ 1 x 490mの³ /h

1 x 490mの³ /h

 

回転式ベーン・ポンプ 1 x 300mの³ /h

1 x 300mの³ /h

 

沈殿コントローラー 水晶制御x 1

水晶制御x 1

 

パワー消費量(KW)

最高。およそ62

平均およそ32

最高。およそ65

平均およそ35

 

 

 

 

医療機器のサンプルのためのX線イメージ投射

 

 

機械を金属で処理する有効で革新的な習慣PVD機械CsIの高真空 0

 

 

 

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