PVDの薄膜の沈殿システム放出させることおよび熱蒸発の真空メッキ装置
PVDの薄膜の沈殿システム、放出させることおよび熱蒸発の真空メッキ装置
PVDの薄膜の沈殿システムはタングステンのフィラメントの蒸発の源の沈殿もとを含み、DCのマグネトロンは源を放出させます（RFの放出させる陰極は選択のためです）。この装置が大抵沈殿材料が付いているプラスチック部分、ガラス、金属またはホイルの薄膜をのような沈殿させるのに使用されています:プロダクト表面の高い反射薄膜か伝導性のフィルムを得るか、または金属展望のイメージを与える一般に純粋な金属のAl、Cr、CU、Ag、Au、チタニウム等の蒸発の源。 但し例外としては、放出させる源は透明な伝導性の酸化物、等を含む半導体の材料そして誘電体の広い範囲を凝縮させます。
PVDの薄膜の沈殿システム構成:
性能
1. 最終的な真空圧力: 5.0×10-6トルよりよくして下さい。
2. 作動の真空圧力:1.0×10-4トル。
3. 1台の自動支払機からの1.0×10-4 Torr≤3分にダウンタイムをポンプでくみます（室温は、部屋を乾燥し、きれいにし、そして空けます）
4. 材料（蒸発）を金属で処理すること:Al、Cr、Sn、チタニウム、SS、CU…等。
5. 作動モデル: 手動で完全な自動的に/Semi-Auto/
lの構造
真空メッキ機械は下記に記載されているキー完了されてシステムを含んでいます:
1. 真空槽
1.1サイズ: 内部の直径1600mm
内部の高さ1600mm
1.2材料: 真空槽SUS304 （選択のためのSS41穏やかな鋼鉄）
ドアおよびフランジSUS304 （選択のためのSS41穏やかな鋼鉄）
部屋は構造を増強します:塗られた終わりの表面処理のSS41穏やかな鋼鉄。
塗られた終わりの表面処理の部屋のシャーシSS41の穏やかな鋼鉄。
1.3盾: SUS304
1.4眺めの窓: 部屋のドア
1.5消音装置を含む真空槽のガス抜き弁、
1.6ドアSUS304材料
2. Rouhgingの真空のポンプ施設管理
3. 高真空ポンプ システム
4. 電気制御および操作システムPLC+タッチ画面
4.1本管回路:どれもヒューズのブレーカ スイッチ、電磁石スイッチ、シリーズ タイプのC/T
4.2蒸発力:35kVA
4.3蒸発の制御システム
4.4操作システム: タッチ画面+ PLC、調理法制御およびの自動操業停止、自動避難、自動コーティング データ ロギング
4.5真空圧力測定システム
真空ゲージ: Pirani +ゲージをペンで書きます
熱電対のゲージ:760トル| 5*10-4トル
4.6警報システム: 圧縮空気圧力、冷却の水流、Mis操作
4.7力の負荷表示器: 電圧表示器および負荷流れの表示器
5. 沈殿システム
5.1タングステンのフィラメントの蒸発の源
5.2熱蒸発材料:ワイヤー、リング、棒等。
5.3放出させて下さい源（動力駆動のDC/MF）を
6. サブシステム
6.1空気圧縮された弁の制御システム
6.2冷水システム水流れ管およびスイッチ弁システム
利用できる機械および適用についての詳細を学んで下さい私達に今連絡して下さい。
