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中間の頻度マグネトロンの放出させるコータ、MFの放出させるコーティング植物、放出させる真空沈殿システム

1 セット
MOQ
negotiable
価格
中間の頻度マグネトロンの放出させるコータ、MFの放出させるコーティング植物、放出させる真空沈殿システム
特徴 ギャラリー 製品の説明 見積依頼
特徴
仕様
沈殿源: 操縦された陰極アーク+ MFの放出させる陰極
技術: バランスをとられたPVDは/Magentronの放出させる陰極の平衡を失いました
アプリケーション: Al2O3のAlNの陶磁器のサーキット ボード、LEDの半導体のAl2O3版
フィルムの特徴: 耐久性、強い付着、装飾的なコーティング色
工場位置: 上海都市、中国
工場位置: 上海都市、中国
世界的なサービス: ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
世界的なサービス: ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
世界的なサービス: ポーランド-ヨーロッパ;イラン西のアジア及び中東、トルコ、インド、メキシコ南アメリカ
訓練サービス: 機械動作、維持、コーティング プロセス調理法、プログラム
訓練サービス: 機械動作、維持、コーティング プロセス調理法、プログラム
保証: 限定保証機械の自由な、一生の1年
OEM及びODM: 利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
OEM及びODM: 利用できる、私達は注文仕立ての設計および製作を支える
ハイライト:

magnetron sputtering equipment

,

vacuum deposition equipment

基本情報
起源の場所: 中国製
ブランド名: ROYAL
証明: CE
モデル番号: RTSP1212-MF
お支払配送条件
パッケージの詳細: 標準を、長距離の海洋/空気および内陸の交通機関のための新たな問題/カートン、適したで詰められるために輸出して下さい。
受渡し時間: 12週間
支払条件: L/C、D ・ D ・ P T/T
供給の能力: 1 ヶ月あたりの 6 セット
製品の説明

 

 

中間周波数マグネトロンの放出させるコータ/MFの放出させるシステム  

 

 

 

マグネトロンの放出させる真空メッキはタイプのPVDイオンめっきの表面処理のmenthodです。それは多くのタイプ材料の行なうか、または非行なうフィルムの生産に、使用することができます:金属、プラスチック ガラス、陶磁器金属の合金。放出させる沈殿概念:コーティング材料(また陰極と示されるターゲット、)および仕事の部分(また陽極と呼ばれる基質、)は真空槽および圧力に減ります置かれます。放出させることはdifferintial電圧の下のターゲットを置き、アルゴン イオン(グロー放電)を形作るアルゴンのガスをもたらすことによって始められます。アルゴン イオンはプロセス ターゲットの方に加速し、ターゲット原子を転置します。これらの放出させる原子は基質にそして凝縮し、非常に薄く、高い均等性の層を形作ります。さまざまな色を放出のgassに反応ガスのような、窒素、oxgen、またはコーティング プロセスの間にアセチレンを導入することによって達成することができます。

 

マグネトロンの放出させるモデル:、放出させること放出させるMF放出させるDC RFの

 

MFは何を放出させていますか。

 

放出させるDCおよびRFと比較されて放出させる中間周波数は光学コーティング、太陽電池パネル、多数の層、複合材料のフィルム等のような表面の誘電性および非導電フィルムのコーティングのフィルムの沈殿のためのコーティングの大量生産のための主要な薄膜の放出させる技術に、特になりました。

それは大いにより速い溶着速度のためのMHzよりもむしろkHzとそれによるRFの放出を作動し、またDCのような混合の薄膜の沈殿の間にことができますターゲット中毒を避ける取り替えています。

 

MFの放出させるターゲットは2セットと常にありました。2つの陰極はそのの間であちこちに転換するAC流れとターゲット表面をきれいにするかそれが血しょうにしぶきを吹き出し、均一薄膜の成長を防ぐことができるアークに導く誘電体の充満蓄積を減らすためにどれが各逆転と使用されます---私達がTarget Poisoningと呼んだことはであるかどれ。

 

MFの放出させるシステム パフォーマンス

1. 最終的な真空圧力:5.0×10-6トルよりよくして下さい。

2. 作動の真空圧力:1.0×10-4トル。

3. Pumpingdownの時間:1台の自動支払機から1.0×10-4 Torr≤への3分(乾燥した室温は部屋をきれいにし、空けます)

4. 材料を(+アークの蒸発放出させる)金属で処理すること:NI、CU、Ag、Au、チタニウム、Zr、Cr、錫、TiC、TiAlN、CrN、CrC、等。

5. 作動モデル:手動で完全な自動的に/Semi-Auto/

 

MFの放出させるシステム構造

真空メッキ機械は下記に記載されているキー完了されてシステムを含んでいます:

1. 真空槽

2. Rouhgingの真空ポンプ システム(裏付けポンプ パッケージ)

3. 高真空ポンプ システム(磁気的に懸濁液の分子ポンプ)

4. 電気制御および操作システム

5. Auxiliarry設備システム(サブシステム)

6. 沈殿システム:MFの放出させる陰極、MFの電源、任意のためのバイアス電源イオン源

 

MFの放出させるシステムRTSP1212-MF指定

 

モデル RTSP1212-MF
技術 放出させるMFのマグネトロン+イオンめっき
材料 ステンレス鋼(S304)
部屋のサイズ Φ1250*H1250mm
部屋のタイプ シリンダー、垂直、1ドア
放出させるシステム 薄く黒いフィルムの沈殿のための専ら設計
沈殿材料 アルミニウム、銀、銅、クロムのステンレス鋼、
ニッケル
沈殿源 2セットはMFの円柱に放出させることが目標とする+ 8つを陰極アークの源を操縦しました
ガス MFC- 4の方法、ArのN2、O2、C2H2
制御 PLC (プログラム可能な論理のコントローラー) +
ポンプ施設管理 SV300B - 1セット(Leybold)
WAU1001 - 1つはセット(Leybold)
D60T- 2sets (Leybold)
ターボ分子ポンプ:2* F-400/3500
前処理 バイアス電源:1*36 KW
安全システム オペレータを保護する多数の安全保護インターロック
冷却 冷水
電気力 480V/3 phases/60HZ (迎合的な米国)
460V/3 phases/50HZ (迎合的なアジア)
380V/3 phases/50HZ (迎合的なEU-CE)
足跡 L3000*W3000*H2000mm
総重量 7.0 T
足跡 (L*W*H) 5000*4000 *4000 MM
サイクル時間 30~40分(基質材料によって、
基質の幾何学および環境条件)
力MAX。 155のKW

平均出力

消費(およそ)

75のKW

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中間の頻度マグネトロンの放出させるコータ、MFの放出させるコーティング植物、放出させる真空沈殿システム 1

中間の頻度マグネトロンの放出させるコータ、MFの放出させるコーティング植物、放出させる真空沈殿システム 2

 

 

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