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真空の放出させる沈殿

December 11, 2017

最新の会社ニュース 真空の放出させる沈殿

真空の放出させる沈殿はである何

1. 放出させる沈殿は物理的な放出させるプロセスによって「放出させるターゲットと呼ばれる」表面から蒸発する粒子の沈殿です。
2.物理的な放出させることは表面原子が通常血しょうから加速される気体イオンの、精力的な衝撃の粒子からの運動量移動によって物理的に出るnonthermal蒸発プロセスです。
3.放出させて下さい沈殿を真空か低圧のガスで前もって形成することができます(< 5="" m="" Torr="">

 

利点はの沈殿を放出させます

 

1. 要素、合金および混合物は放出させ、沈殿させることができます。

2. 放出させるターゲットは安定した、長命の蒸発の源を提供します。

3. ある構成で放出させるターゲットはあらゆる形である場合もある大きい区域の蒸発の源を提供します。

4. ある構成では放出させる源は円錐形のラインまたは区分のような定義された形、である場合もあります。

5. ある構成反応沈殿で容易に血しょう(すなわち「反応沈殿」を放出させて下さい) 「で活動化させる」反応気体種を使用して達成することができます

 

不利な点はの沈殿を放出させます

 

1. 放出させる率は熱蒸発で達成することができる率と低く比較されます。

2. フィルムの特性は沈殿材料の変化の「角度の発生によって」決まり、低圧に高エネルギー ニュートラルからの衝突の量は放出させるターゲットから反映しました。

3. 多くの構成では沈殿配光は均一でなく、均一厚さおよび特性のフィルムを得るために基質の位置をランダム化するfixturingを要求します。

4. 放出させるターゲットは頻繁に高く、物質的な利用は粗末かもしれません。

5. ある構成気体汚染では容易にシステムから取除かれなくし、従って気体汚染は血しょうで「活動化させ」、真空の蒸発のより問題のフィルムの汚染に多くをします。

6. 血しょうまたは放出させるターゲットからのある構成放射および衝突で基質を低下できます。

7. 沈殿を建築ガラスの半導体材料、コーティング、コンパクトディスクの反射コーティング、磁気フィルム、乾燥フィルムの潤滑油および装飾的なコーティングの薄膜のメタライゼーションを沈殿させるために広く利用されています放出させて下さい。

 

放出させる方法

 

DCの/MFSputtering放出させること

放出させる/Unbalacedの放出させることバランス

 

放出させる塗装システム

 

ガラス、ペット フィルム等の低E、ITOのフィルムのコーティングのためのコーターそしてインライン放出させる塗装システムを区分して下さい。

 

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コンタクトパーソン : Ms. ZHOU XIN
ファックス : 86-21-67740022
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